SCIL

研究開発段階から大量生産段階に至るリソグラフィ関連の課題を解決します

 

ナノ構造部品を持つ製品需要が高まる中、メーカー各社は大量生産可能かつ費用効率的なリソグラフィ工程の確立が必須となっています。光リソグラフィなど、従来の工程には、使用される設備が高価で生産性が低く、パターンサイズの限界などの課題がありました。

基板コンフォーマル型インプリント（SCIL）は、サブマイクロ/ナノ領域のパターンで広範に使用可能な、素早く効果的なナノインプリント・ソリューションです。インプリント技術や材料相互作用に関する深い知識を活用した当社のソリューションにより、LEDやレーザー、光学部品、太陽電池、バイオセンサーなどのメーカー各社は、製品の性能を向上させる一方で、最終製品の製造コストを削減することができます。

当社と連携することにより、ナノインプリント工程でお客様が必要とするすべてのツールをワンストップで入手することができます。お客様独自のニーズに基づき、研究開発段階から大量生産のためのセットアップまで、お客様のアイデアを素早く、より効率的に市販化できるよう、お客様のバリューチェーンを包括的にサポートします。

SCILとは

SCILとは、きわめて広範な領域の材料で、nmレベルの解像度パターン作成を可能にした 費用効率的でロバストな大量生産工程です。SCILは、最大200 mmまでのウエハ領域に実績のある高品質インプリントを行います。これにより、10 nm未満のサイズのパターンを作成することができます。

特許取得済みの当社独自のインプリント用レジストにより、SCILは強固なエッチングマスクを直接製造するため、工程時間を短縮できます。SCILインプリント用レジストならではの光（およびUV）安定性により、機能的（光学）層として最適にお使いいただけます。

SCIL Nanoimprint Solutions

試験段階から生産段階まで、SCIL Nanoimprint Solutionsは、お客様が信頼できるサービス・サポートパートナーです。

当社が提供するサービス：

• 小規模連続大量生産用設備および工程
• 消耗品（スタンプやインプリント材料）の高度サプライチェーン
• お客様のニーズに合わせた専用工程

 

詳細はウエブサイトをご確認ください：www.philips.com/scil-nanoimprint